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UNE-EN 62047-16:2015 (Ratificada)

UNE-EN 62047-16:2015 (Ratificada)

Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 16: Métodos de ensayo para determinar la tensión residual de películas MEMS. Métodos de curvatura de la oblea y de deflexión del haz (Ratificada por AENOR en agosto de 2015.)

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 16: Test methods for determining residual stresses of MEMS films – Wafer curvature and cantilever beam deflection methods (Endorsed by AENOR in August of 2015.)

Dispositifs à semiconducteurs - Dispositifs microélectromécaniques - Partie 16: Méthodes d'essai pour déterminer les contraintes résiduelles des films de MEMS - Méthodes de la courbure de la plaquette et de déviation de poutre en porte-à-faux (Entérinée par l’AENOR en août 2015.)

Ratification date:
2015-08-01 /Vigente
International equivalences:

EN 62047-16:2015 (Identical)

IEC 62047-16:2015 (Identical)

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